光刻胶什么品牌好_十大光刻胶好品牌名单一览:光刻胶什么品牌好?市面上影响大的光刻胶品牌众多,到底哪个品牌好一些呢?下面为您介绍一些光刻胶好品牌,仅供参考。光刻胶什么品牌好
1、JSRJSR自开始销售光刻胶以来,以满足半导体行业的需求为宗旨,多年来不断的向全球客户提供着提供光刻材料、CMP材料和封装材料。JSR在致力于解决全球客户问题的同时,半导体材料的销售额也随之稳步增长。公司将继续以在日本开发的技术为基础,应对各种半导体工艺上的课题挑战,为半导体...更多
2、TOK东京应化TOK集团自1940年成立以来,一直以“自由豁达”、“技术的不懈钻研”、“产品的高度化”、“对社会的贡献”的经营理念为基础,追求高级新技术、新技法的开发。在这个“新技术·新技法的开发”中,没有停留在高性能、高功能的优秀产品的开发和生产性高的制造方法上,也积极地致力于对环...更多
3、ShinEtsu信越信越化学工业株式会社作为一家原材料生产商,从50年前推出有机硅制造和销售以来,“信越有机硅”在全世界所开展的高品质有机硅产品的研究和生产业务取得了巨大的业绩。为了满足日益扩大的产品要求,“信越有机硅”在日本、美国、荷兰、中国台湾、韩国、新加坡以及中国浙江和上海建立全球范...更多
4、DuPont杜邦成立于1802年的美国杜邦公司是一家科学企业,凭借创新的产品、材料和服务,为全球市场提供世界级的科学和工程能力,协助应对各种全球性挑战,包括为全球各地的人们提供充足健康的食物、减少对化石燃料的依赖,以及保护生命与环境,让全球各地的人们生活得更美好、更安全和更健康。杜邦公...更多
5、住友化学住友化学创办于1913年。为解决在爱媛县新居滨的别子铜山炼铜时产生的废气所导致的烟害问题,利用造成烟害的亚硫酸气体制造肥料,这是住友化学的起点。谋求解决别子铜山的烟害问题,同时也为了对粮食增产做出贡献应运而生的住友化学,始终秉承公司自创立之初的理念,即不仅只是追求公司自...更多
6、FUJIFILM富士富士胶片株式会社(以下简称:富士胶片)自1934年创建以来,不断以坚定的步伐向前迈进,发展至今已成为世界上规模较大的综合性影像、信息、文件处理类产品及服务的制造和供应商。 富士胶片(中国)投资有限公司成立于2001年4月12日,是富士胶片株式会社为扩大中国大陆地区事业在...更多
7、Dongjin东进世美肯株式会社1967年10月在韩国创建,主要生产和销售半导体及FPD(Flat Panel Display)用材料和发泡剂,在该领域享有极高的研发和生产业绩。东进世美肯作为韩国精细化学行业的先驱者,跟随电子材料产业的发展而成长,凭借其间积累的差别化材料技术和前沿核...更多
8、Kempur北京科华微电子材料有限公司是一家中美合资企业,成立于2004年,是一家产品覆盖KrF(248nm)、I-pne、G-pne、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂的供应商与服务商,也是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。科华微电子拥有中高档光刻胶生...更多
9、晶瑞电材晶瑞电子材料股份有限公司(股票代码:300655)是一家集研发、生产和销售于一体的科技型新材料公司,为国内外新兴科技领域提供关键材料和技术服务。主要产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料等,广泛应用于半导体、面板显示、LED等泛半导体领域及锂电池、太阳能光...更多
10、雅克科技江苏雅克科技股份有限公司是深圳证券交易所上市企业(股票代码002409.SZ),主要致力于电子半导体材料, 深冷复合材料以及塑料助剂材料研发和生产。公司通过多种方式参与到集成电路(晶圆制造及封装)、平板显示(包含LCD及OLED) 等电子制造产业链各个环节,丰富产品链为...更多
1、按照显影效果不同, 光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶。
正性光刻胶的曝光部分溶于显影剂,显影时形成的图形与掩膜版上的图形相同。负性光刻胶的曝光部分则不溶于显影剂,显影时形成的图形与掩膜版相反。两者的生产工艺流程基本一致,区别在于主要原材料不同。
2、按照化学结构不同,光刻胶可分为光聚合型、光分解型、光交联型和化学放大型。
光聚合型光刻胶采用烯类单体,在光作用下生成自由基,引发单体聚合反应生成聚合物,常用于负性光刻胶。
光分解型光刻胶,采用含有重氮醌类化合物(DQN)材料作为感光剂,其经过光照后,发生光分解反应,可以制成正性光刻胶。
光交联型光刻胶采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光作用下,形成不溶性的网状结构,起到抗蚀作用,可制成负性光刻胶。
化学放大型光刻胶采用难以溶解的聚乙烯树脂,使用光致酸剂(PAG)作为光引发剂,当光刻胶曝光后,曝光区域PAG产生酸,可作为后续热烘焙工序的催化器,使得树脂变得易于溶解。化学放大光刻胶曝光速递是DQN光刻胶的10倍,对深紫外光源具有良好的光学敏感性,同时具有高对比度,对高分辨率等优点。
3、按照下游应用领域不同,光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶。
PCB光刻胶主要包括干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨。
LCD领域光刻胶主要包括彩色光刻胶和黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶。
半导体光刻胶根据对应波长可以分为紫外光刻胶(300-450nm)、深紫外光刻胶(160-280nm)、极紫外光刻胶(EUV、13.5nm)、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶。光刻胶波长越短,加工分辨率越高。
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